Fabricación, caracterización microestructural y aplicación del SiOxNy

Abstract

La presente tesis se enmarca dentro de las investigaciones que se realizan en la línea de la Ciencia de los Materiales, campo que en el mundo ha captado especial atención por sus innumerables aplicaciones científicas e industriales y que en nuestro país comienza a considerarse como una importante área de desarrollo. Este trabajo ha sido desarrollado en los laboratorios de Películas Delgadas y de Microscopía Electrónica de la Facultad de Ciencias de la Universidad Nacional de Ingeniería (UNI) en colaboración con el Instituto de Física de la Universidad Nacional Autónoma de México (IFUNAM), y el Departamento de Materiales e Interfaces del Weizmann Institute of Science (WIS) de Israel. En los laboratorios de la UNI se obtuvieron las películas de SiOxNy por la técnica del rociado pirolítico (TRP) y en cada proceso se iba variando los parámetros de fabricación a fin de obtener la película con las mejores características posibles, y se realizó posteriormente la caracterización morfológica y estructural en los Laboratorios del IFUNAM usando Difracción de Rayos X (XRD), Espectroscopia IR de Fourier (FTIR), Microscopía de luz, Microscopía Electrónica de Barrido (SEM), Microscopía Electrónica de Transmisión (TEM), Microscopía Electrónica de Alta Resolución (HRTEM), y posteriormente se hicieron las pruebas como radiador pasivo en el Departamento de materiales e Interfaces del Weizmann Institute of Science de Israel. Parte de este trabajo han sido publicados en: 1. López A. Los Embriones Cristalinos de la Fase Amorfa del SiOxNy Acta Microscópica, Ecuador Set. 1997 (4 Interamerican Electron Microscopy and II Meeting of the Ecuadorian Society for Electron Microscopy Related to Biomedical and Material Science. Ecuador) 2. López A. Electron Microscopy in the Characterization of the a: SiOxNy Thin Films deposited by Spray Pyrolysis. (14 International Congress on Electron Microscopy ICEM-14 Can Cun - México Set 1998).