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Title: Estudio de influencia del Freon (CF4) en el electrocromismo de películas delgadas de Dióxido de Titanio (Tio2)
Authors: Gutarra Espinoza, Abel Aurelio
Advisors: Estrada López, Walter Francisco
Keywords: Dióxido de Titanio;Electrocromismo;Películas electrocrómicas
Issue Date: 1994
Publisher: Universidad Nacional de Ingeniería
Abstract: Se han fabricado películas delgadas de TiO2 por la técnica “DC Reactive Magnetron Sputtering” para aplicaciones eletrocromicas. Depositadas a temperatura ambiente, las películas de TiO2 obtenidas presentan estructura amorfa o microcristalina que probablemente corresponde a la fase anatasa. El efecto electrocromico en estas películas es notable pero excesivamente lento para las aplicaciones. Se comporta como un material electrocromico catódico que deviene absorbente con la inserción de cationes de litio. La banda de absorción se produce en la zona visible y esta centrada en 0.69 um. Se ha encontrado que la edición de gas Freon (CF4) a la mezcla Ar+O2 usado en la fabricación de TiO2, durante el sputtering, mejora notablemente la rapidez del proceso de inserción iónica y por lo tanto de la modulación óptica. Con esta modificación en el proceso de fabricaciones, obtenemos películas de TiO2 : F que denominamos “fluoradas” y que alcanzan cambios de transmitancia de hasta 50% en pocos segundos. Con el propósito de evaluar las potenciales aplicaciones de este material, fue sometido a pruebas de durabilidad. Según los resultados las películas fluoradas de TiO2 pueden ser cicladas mas de 10^4 veces sin mostrar deterioro. El análisis de las ventajas notables encontradas en las películas fluoradas respecto a las de TiO2 (obtenidas sin la introducción CF4) es la principal contribución de este trabajo al estudio de los materiales electrocromico. Este efecto, a nuestro entender, no ha sido reportado anteriormente en la literatura.
URI: http://cybertesis.uni.edu.pe/handle/uni/239
Rights: info:eu-repo/semantics/embargoedAccess
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