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Título : Fabricación y caracterización de películas delgadas para cátodos de microbaterias recargables de litio
Autor : Valdivia Mendoza, Héctor Giovanny
Asesor : Talledo Coronado, Arturo Fernando
Palabras clave : Películas delgadas;Equipo de sputtering
Fecha de publicación : 2002
Editorial : Universidad Nacional de Ingeniería
Resumen : En este trabajo se reporta el inicio del funcionamiento del equipo de sputtering de esta facultad. El plasma se genera con una fuente de voltaje variable de 13,56 MHz (radiofrecuencia), y junto al cátodo hay un imán de forma circular para asistir al plasma. Se operó el equipo en la modalidad rf-magnetron-sputtering y con una mezcla de gases de Ar-O2 para obtener películas delgadas de pentóxido de vanadio de diferentes espesores, depositadas sobre sustratos de vidrio y vidrio recubierto con una película delgada conductora de óxido de estaño (β-SnO). Las películas de V2O5 se han depositado a temperatura ambiente obteniéndose que las muestras V2O5/SnO/vidrio son siempre cristalinas de estructura ortorrómbica y las muestras V2O5/vidrio son amorfas, posteriormente se les calentó hasta 350 °C durante 3h - 4h, de modo que las películas de V2O5 sobre vidrio cristalizaron en una estructura ortorrómbica cuando las presiones de los gases fueron P02 /PAr = 18,6 % y estructura tetragonal cuando P02 / Par = 8,51 %. A las muestras V2O5/SnO/vidrio se les insertó diferentes cantidades de litio notándose que el cambio de la banda de absorción IR de 1032 cm-1 - 1035 cm-1 hacia 990 cm-1 se debe al alargamiento del parámetro c que une las capas del V2O5. La caracterización química cualitativa se hizo con espectroscopia de emisión de electrones por absorción de radiación X (XPS); la caracterización estructural se hizo con difracción de rayos X (XRD) y con espectroscopia de absorción de radiación en el infrarrojo (IR) se estudió las vibraciones de la red.
URI : http://cybertesis.uni.edu.pe/handle/uni/6125
Derechos: info:eu-repo/semantics/embargoedAccess
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